用語集

用語集について

プラズマの表面処理に関する用語とその解説をまとめたページです。

デスミア処理

電子基板などの層間の電気接続の為、レーザやドリルなどにより穴あけ加工する際に発生する有機残渣物(=スミア)を除去する工程です。手法としては、ウェットデスミアとドライデスミア(プラズマ)に大別され、従来はウェットデスミア(過マンガン酸などの薬液処理)が一般的でしたが、小径ビア化による液の流動性異常、吸湿性の高い樹脂(ポリイミド等)では使用できない、新材料においては薬液処理が効かないなどの理由により、近年ではプラズマによるドライデスミアが増加しています。

デスカム処理

デスカム処理とは、配線形成の際、DFRの露光・現像後にスカム(DFRの現像残渣)を除去する工程です。

アッシング

アッシングとは、エッチングの後、不要となったフォトレジストをプラズマなどで反応させて気相中で分解・除去するレジスト剥離のことです。またその装置をアッシャー(レジスト剥離装置)と呼びます。

オゾンやガス等のガスを導入したアッシング室内で、紫外線等の光を照射してガスとレジストの化学反応を使っレジスト剥離をする光励起アッシングと、ガスを高周波等でプラズマ化し、そのプラズマを利用してレジストを剥離するプラズマアッシングの2つに大別されます。

エッチング

エッチングとは、腐食作用を利用した表面加工技術です。使う部分に防食処理をし、エッチング剤で不要部分を除去します。主に金属の微細加工や半導体の薄膜形成用途として使われています。

エッチングの手法として、薬液を使うウェットエッチングと、ガスを使うドライエッチングがあります。

濡れ性

固体表面とそれに接する液体の界面現象を表現する用語です。水との親和性を表す親水性、撥水性などで使用されるケースが多く、液体を一定とすると、固体の表面自由エネルギーにより親和性が決定します。固体の表面自由エネルギーを改質する手法として、界面活性剤などに代表される薬液処理、物理的に粗化する物理研磨、気層中で固体表面を改質するプラズマ処理などがあります。

焼結

粉体を成形し、融点以下の温度で熱したとき、粉体粒子の間に結合が起こって固体になる現象です。各種の窯業製品やセラミックスの製造に応用されます。

マイクロ波

慣用的には周波数が300MHz〜300GHz(波長が1m〜1mm)の電磁波のことを指します。工業用では2.45GHzを用いるのが一般的です。短波長でエネルギーが高い事や、直進性が高い事などの特徴を利用し、様々な用途に適用されています。プラズマ用途で言えば、短波長であるため、高密度なプラズマを生成できるメリットがあります。

高周波

高周波(こうしゅうは)とは、比較的周波数の高い電磁波を指します。慣用的には周波数が30kHz以上の電磁波のことを高周波と言われます。
プラズマ用途では一般的には13.56MHzの周波数のものが用いられます。

プラズマ

プラズマは、気体を構成する分子が部分的に、または完全に電離し、陽イオンと電子に別れて自由に運動している状態です。プラズマ中の電荷は、異符号の電荷を引き付けるため、全体として電気的に中性な状態に保たれます。

また、構成粒子が電荷をもつため、粒子は電磁場を通して遠隔的な相互作用をすることができ、離れた領域にある粒子の運動に依存したふるまいをします。このように、分子からなる気体とは大きく異なった性質をもつため、プラズマは物質の三態、すなわち固体、液体、気体とは異なった、物質の第四態といわれます。

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