用語集

用語集について

プラズマの表面処理に関する用語とその解説をまとめたページです。

デスミア処理

ビア内のポリイミド部のクリーニング(デスミア)にはアルカリ性過マンガン酸塩水溶液を用いるウエットデスミア法が用いられています。ウエットデスミア法では強アルカリ溶液中で加熱して行うため、ポリイミド層に亀裂が生じるなどのダメージが生じやすいです。

デスカム処理

デスカム処理とは、配線形成の際、DFRの露光・現像後にスカム(DFRの現像残渣)を除去する工程です。

アッシング

アッシングとは、エッチングの後、不要となったフォトレジストをプラズマなどで反応させて気相中で分解・除去するレジスト剥離のことです。またその装置をアッシャー(レジスト剥離装置)と呼びます。

オゾンやガス等のガスを導入したアッシング室内で、紫外線等の光を照射してガスとレジストの化学反応を使っレジスト剥離をする光励起アッシングと、ガスを高周波等でプラズマ化し、そのプラズマを利用してレジストを剥離するプラズマアッシングの2つに大別されます。

エッチング

エッチングとは、腐食作用を利用した表面加工技術です。使う部分に防食処理をし、エッチング剤で不要部分を除去します。主に金属の微細加工や半導体の薄膜形成用途として使われています。

エッチングの手法として、薬液を使うウェットエッチングと、ガスを使うドライエッチングがあります。

濡れ性

固体表面とそれに接する流体の間の界面現象を表現する用語です。

焼結

粉体を成形し、融点以下の温度で熱したとき、粉体粒子の間に結合が起こって固体になる現象です。各種の窯業製品やセラミックスの製造に応用されます。

マイクロ波

マイクロ波の波長は1〜10cmで、直進性が強い性質を持つため、特定の方向に向けて発射するのに適しています。

高周波

高周波(こうしゅうは)とは、電波、音波など、波形を構成するスペクトラムのうち比較的周波数の高いものを指します。音波の場合は、超音波と呼ばれることが多いです。

プラズマ

プラズマは、気体を構成する分子が部分的に、または完全に電離し、陽イオンと電子に別れて自由に運動している状態です。プラズマ中の電荷は、異符号の電荷を引き付けるため、全体として電気的に中性な状態に保たれます。

また、構成粒子が電荷をもつため、粒子は電磁場を通して遠隔的な相互作用をすることができ、離れた領域にある粒子の運動に依存したふるまいをします。このように、分子からなる気体とは大きく異なった性質をもつため、プラズマは物質の三態、すなわち固体、液体、気体とは異なった、物質の第四態といわれます。

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