プラズマ処理装置

プロダクト

ニッシンのプラズマ表面処理装置は、用途に応じた3つのタイプをご用意。
お客様のご要望に応じてカスタマイズも可能です。

M120W

全自動化対応可能
シート向け両面処理システム

・対象物形状
:シート状、フィルム状
・使用用途
:量産
・自動化
:全自動化に対応可能
・処理面
:片面/両面 選択可能
M120W

特徴

大面積処理

最大630×640㎜サイズをプラズマ照射可能です。

高均一処理

スキャン処理を行うことにより、高い処理均一性が得られます。

高い制御性

処理方式、プラズマ条件の制御により微量な処理量の制御を可能としました。

幅広SWPリアクタ

最大630㎜幅のスキャン処理に特化したプラズマリアクタを採用しています。

全自動に対応

オプションのローダ/アンローダを組み合わせることで全自動のプラズマ処理を実現します。

スキャン処理タイプとは

スキャン処理タイプとは

サンプルがプラズマリアクタ直下を等速度で通過するスキャン処理方式を使用しているため、大面積を均一に処理することが可能です。

また、制御性が非常に高く、通過速度の変更によりナノ~マイクロオーダーまで処理量を容易に可変可能です。

全自動化対応

全自動化対応<

移載機を取り付けることで、全自動化に対応可能です。

移載機はお客様ご準備物と組み合わせていただくことも、ニッシンで製作することも可能です。

M120W 装置スペック

設置可能最大サイズ:630mm×640mm×20mm

装置タイプ
サイズ(mm) W:1730mm D:2530mm H:2000mm
重量(kg)  1800kg
ユーティリティ
電力(※1) 三相 AC200V 52kVA
冷却水(※1) 30L/min.以上(結露無きこと)
圧縮空気(※1) 0.5~0.7MPa 20NL/min.以上
パージガス 5~200SLM(プロセスによる)
プロセスガス(※2) O2,Ar,CF4,N2,H2,Heなど(プロセスによる)
  1. ※1.ハードウェア仕様により、多少異なります。
  2. ※2.プロセス仕様によって、使用ガス種などは異なります。

R220W

ロールtoロール生産に対応した真空プラズマシステム

・対象物形状
:ロール to ロール
・使用用途
:量産
・自動化
:プラズマ装置は自動化 (ロールの投入/取出は手動)
・処理面
:片面/両面 選択可能 (プロセスによる)
・その他
:EPC機能、水冷ローラ機能
R220W

特徴

高均一・高速処理

高密度・高均一プラズマの直下をシートが通過し、ロールtoロールプラズマ処理にて高速・高均一なプロセスを実現することができます。

600mm幅SWPリアクタ

長手方向600mm幅のロールtoロールのプラズマ処理に適した長方形プラズマリアクタを採用しています。
両面同時処理も可能です。

様々なアプリケーションに対応

アッシング、表面処理など各種アプリケーションに対応しております。
ロールtoロールプラズマシステムにおいてもマイクロ波プラズマの特徴を生かした高速、高性能処理をご提供いたします。

オプション例

材料、ライン要求に合わせて、様々なオプションが可能です。

  • ・温調ローラ
  • ・張力センサ
  • ・巻径センサ
  • ・外部通信機能
  • ・プロセスロギング機能

など

オプション例

R220W 装置スペック

設置可能最大サイズ:幅540mm×ロール外形φ500mm

装置タイプ
サイズ(mm) W:2180mm D:1500mm H:2350mm
重量(kg)  3500kg
ユーティリティ
電力(※1) 三相 AC200V 52kVA
冷却水(※1) 30L/min.以上(結露無きこと)
圧縮空気(※1) 0.5~0.7MPa 20NL/min.以上
パージガス 5~200SLM(プロセスによる)
プロセスガス(※2) O2,Ar,CF4,N2,H2,Heなど(プロセスによる)
  1. ※1.ハードウェア仕様により、多少異なります。
  2. ※2.プロセス仕様によって、使用ガス種などは異なります。

Micro Labo-PS2

主に研究開発のために必要な機能を厳選した
シンプル・低コスト・省スペースモデル

・対象物形状
:シート、フィルム、立体物
・使用用途
:研究開発・少量生産
・自動化
:プラズマ装置は自動化 (サンプルの投入/取出は手動)
・処理面
:片面
Micro Labo-PS2

特徴

低価格を実現

研究開発に必要な機能を絞り込みシンプルにすることで、低価格を実現しました。

研究・開発に最適

コンパクト設計による省スペース化で研究室への設置が容易、数種類のパラメータを設定可能、プロセス中での温度・抵抗データの連続変化の計測など、研究開発に最適です。

低温・短時間での焼結処理

高独自の3ステッププロセス(1.プレヒート 2.減圧乾燥 3.プラズマ照射)により低温・短時間の処理と焼結金属膜の高品質(低抵抗や高焼結密度)を実現しました。

強力マイクロ波SWPリアクタ

水素系プラズマの採用により、銅などの酸化しやすい材料も還元しながらの処理が可能です。
ナノペーストに還元材添加を必要としません。

研究に最適

研究に最適

大面積開口により、電子レンジの感覚でサンプルの設置・処理が可能です。

処理時間設定・プラズマ条件を決定し、あとはスタートボタンを押すだけのシンプルな操作が可能です。

プラズマ条件は処理サンプルに合わせて低温処理条件から高温処理条件まで幅広く設定が可能です。研究・開発用途に最適な装置です。

Micro Labo-PS2 装置スペック

設置可能最大サイズ:120mm×100mm

装置タイプ
サイズ(mm) W:725mm D:530mm H:1610mm
重量(kg)  200kg
ユーティリティ
電力(※1) 三相 AC200V 52kVA / 単相 AC100V 1.5kVA
冷却水(※1) なし
圧縮空気(※1) 0.4~0.7MPa 1NL/min.以上
パージガス プロセスによる
プロセスガス(※2) O2,Ar,CF4,N2,H2,Heなど(プロセスによる)
  1. ※1.ハードウェア仕様により、多少異なります。
  2. ※2.プロセス仕様によって、使用ガス種などは異なります。

プラズマ表面処理装置スペック一覧

型式 R220W M120W Micro Labo-PS2
対象物形状 ロール to ロール シート
フィルム
シート
フィルム
立体物
装置サイズ(㎜) W:2180mm
D:1500mm
H:2350mm
W:1730mm
D:2530mm
H:2000mm
W:725mm
D:530mm
H:1610mm
重量(kg) 3500Kg 1800Kg 200Kg
ユーティリティ 電力 三相 AC200V
52kVA
三相 AC200V 10kVA
単相 AC100V 1.5kVA
冷却水 30L/min.以上(結露無きこと) なし
圧縮空気 0.5~0.7MPa 20NL/min.以上 0.4~0.7MPa 1NL/min.以上
パージガス 5~200SLM(プロセスによる) プロセスによる
プロセス
ガス
O2,Ar,CF4,N2,H2,Heなど(プロセスによる)
その他 排気ダクトを要す
処理方式 ロールtoロール 両面同時
スキャン処理
リターン方式
停止処理
バッジ方式
設置可能
最大サイズ
幅540mm×ロール外形φ500mm 630mm×640mm 120mm×100mm
処理面 両面 片面
対応プロセス 濡れ性改善
密着性向上
アッシング
エッチング
還元
濡れ性改善
密着性向上
アッシング
エッチング
還元
ナノペースト焼結
オートメーション 対応可能
用途 大量生産 研究・開発

※仕様により変更するため、標準的な値としてご参考ください。

技術のご相談やお見積りなど、お気軽にお問い合わせください

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コンサルティングから装置の設置・修理業務まで、ニッシンはあらゆるシーンでお客様をサポートいたします。

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