ニッシンプラズマの特徴

高均一処理とは？

均一なマイクロ波プラズマ発生源とスキャン処理方式で大面積均一な処理を実現

ニッシンのプラズマ装置は独自のマイクロ波プラズマとスキャン技術により高均一な処理を実現しました。

対象物をプラズマの直下を通過させて処理する”スキャン処理“により、大面積に対しても高い均一性を実現しました。

最大対応サイズ：730mm×920mm

高密度処理とは？

周波数の高いマイクロ波によりプラズマさせることで、
プラズマの密度を高くすることが可能
様々な材料に対して短時間処理を実現

ニッシンの高密度マイクロ波プラズマでは通常の高周波プラズマの数百倍から数千倍の密度を持ったプラズマを生成します。

そのため、これまでは長時間のプラズマ照射が必要であった処理や、十分な効果が得られなかった処理でも、短時間で大きな効果を付与することができます。

低温処理とは？

無電極放電のダウンフローによるプラズマで、低耐熱性材料へのプラズマ照射を実現

ニッシンのマイクロ波プラズマは電極を用いない「無電極放電」によりプラズマを生成し、「ダウンフロー」によって対象物へプラズマを輸送します。そのため、加速されたイオンの衝突を最小限に抑えることができ、対象物への熱ダメージを大幅に軽減できます。

加えて、ニッシン独自のプラズマ輸送機構によりさらなる低温化が可能で、従来の処理では困難であった耐熱温度が低いPET樹脂や極薄基板などの材料にも、プラズマ照射することが可能となりました。

プラズマ表面処理装置のカスタマイズとは？

装置メーカーのノウハウを活かし、生産ラインに適した設備にカスタムできます

事例1枚葉処理の工程を全自動化

従来のバッチ式プラズマ装置では困難であった枚葉処理を採用することで、全自動プラズマ処理システムを実現しました。

全自動化されたプラズマ処理によりハンドリングエラー、ヒューマンエラーを軽減し、歩留まりを大幅に改善することが可能です。

事例2フィルム・フレキシブル基板を安全に搬送

厚さ数十ミクロンの極薄フィルム、フレキシブル基板に対しては、独自開発のチャッキング機構を装置搬送部追加することで、安定した搬送、処理が可能です。

事例3生産性の向上

処理室前後にロードロックチャンバ、アンロードロックチャンバを設けることにより、真空引きなどの処理に寄与しない時間帯を削減、従来の数倍の生産性を得ることが可能です。